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原位激光過程氣體分析儀

產(chǎn)品簡介

原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設計,可用于工業(yè)過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。

產(chǎn)品型號:GasTDL-3100
更新時間:2025-03-11
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
訪問量:2153
詳細介紹在線留言

原位激光過程氣體分析儀 

原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設計,可用于工業(yè)過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。

原位激光過程氣體分析儀 產(chǎn)品特點
·  采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
·  原位安裝,無需采樣預處理系統(tǒng)
·  響應快速(T90≤4s),可實時反應氣體濃度
·  實時在線測量,氣體濃度不易失真,測量精度高
·  在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環(huán)境下具有良好的適應性
·  隔爆防爆設計,安全系數(shù)高
·  構(gòu)造簡潔,無可動元件,無損耗元件,免維護


產(chǎn)品參數(shù)
性能參數(shù)
測量組份O2、CO、CO2、CH4*
測量原理TDLAS
測試范圍O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100%)
CO:(0 ~ 100)%VOL
CO2:(0 ~ 100)%VOL
CH4:(0 ~ 20)%VOL 
精度≤±1%F.S.
重復性≤±1%F.S.
量程漂移≤±1%F.S.
分辨率0.01%VOL
響應時間T90≤4s
工作參數(shù)
防爆等級Exd II CT6
安裝方式原位安裝
環(huán)境溫度 (-20~ +60)℃
工作電源24V DC,24W
吹掃氣體(0.3~ 0.8)MPa工業(yè)氮氣
接口信號
通訊RS485、RS232
輸出模式2路4-20mA輸出
3路繼電器輸出
*注釋:每套分析儀測量單一組分氣體濃度
 
 

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